Caratterizzazione ottica di nanostrutture a film sottili
Area prioritaria di innovazione S3: Manifattura sostenibile
Settori: Meccatronica
Rete: ElFoMat
Perchè?
Descrizione sperimentale delle caratteristiche ottiche di campioni di film sottili ottici, mediante misure ellissometriche e con profilometro. Con il profilometro si è in grado di misurare con elevata precisione spessori di film sottili con una sensibilità fino ad 1 nm. Inoltre, può essere utilizzato anche per valutare la topografia e le rugosità delle superfici a livello nanometrico. Con l’ellissometro si possono valutare i parametri ottici di film sottili (permettività e spessore), mediante la misura della variazione dello stato di polarizzazione del segnale incidente dopo la riflessione sul campione. La misura può essere effettuata al variare dell’angolo di incidenza e della lunghezza d’onda (Ellissometria Spettroscopica).
Come?
Servizio personalizzato
Attrezzatura
ProfilometroDektak 150 della Veecoe Ellissometro Spettrometrico Smart SE della HORIBA.
Tipo di materiale / prodotto / matrice analizzabile
Film sottili di vari materiali.
Chi? Dove?
Politecnico di Bari - Dipartimento di Ingegneria Elettronica e dell’Informazione - Laboratorio NanoPhotonics and Electromagnetics Group
Per chi?
Università, Enti di ricerca e industria (aerospazio, meccanica/meccatronica, biotech, energia, agroalimentare, telecomunicazioni).
In quanto tempo?
Da calcolare in base al numero di campionie alla tipologia di misure richieste.
Certificazioni
Non presenti
Norma/metodo di prova eseguibile
Non presente